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HS-19GDⅤ肖氏硬度計采用精密機械和(hé)微電腦技術設計制造,廣泛應用與機械制造、科學(xué)試驗、冶金工業等領域。 HS-19GDⅤ台式軋輥肖氏硬度計機電一(yī)體化,操作簡便、測試迅速;液晶數字顯示,具有測量、删除、均值、打印等功能;
W-B92韋氏硬度計是一(yī)種輕便的(de)可(kě)現場快速測試不鏽鋼帶冷軋薄鋼帶硬度的(de)儀器。采用HRB标準洛氏硬度塊校正儀器,測量範圍相當于48-100HRB。
W-B75韋氏硬度計是一(yī)種輕便的(de),可(kě)以現場快速測試銅及銅合金硬度的(de)儀器。測試迅速,簡便,一(yī)卡即可(kě),硬度值直接讀出。
W-BB75韋氏硬度計是一(yī)種輕便的(de),可(kě)以現場快速測試銅及銅合金硬度的(de)儀器。測試迅速,簡便,一(yī)卡即可(kě),硬度值直接讀出。
W-20b韋氏硬度計是一(yī)種輕便的(de),可(kě)以現場快速測試鋁合金硬度的(de)儀器。測試迅速,簡便,一(yī)卡即可(kě),硬度值直接讀出,
W-20a韋氏硬度計是一(yī)種輕便的(de),可(kě)以現場快速測試鋁合金硬度的(de)儀器。測試迅速,簡便,一(yī)卡即可(kě),硬度值直接讀出,
金相試樣抛光機P-2是采集多方面使用人員的(de)意見和(hé)要求設計而成的(de),它具有造型美、結構合理(lǐ)、傳動平穩、噪音小、操作維修方便等優點。該機可(kě)供雙人同時操作,抛光盤直徑與傳遞功率均大于國內(nèi)同類産品,能适合更多種材料的(de)抛光要求,是試樣抛光的(de)理(lǐ)想設備。
金相試樣抛光機P-1可(kě)以用對經細磨後的(de)金相試樣的(de)抛光,殼體采用整體吸塑技術,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,能适應多種材料的(de)抛光要求。
金相試樣磨抛機M-2,可(kě)以用于金相試樣的(de)精磨,雙盤式設計,可(kě)以兩人同時操作,殼體采用整體吸塑技術,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,并自(zì)帶冷卻裝置,可(kě)以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。
金相試樣磨抛機M-1可(kě)以用于金相試樣的(de)精磨,殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,并自(zì)帶冷卻裝置,可(kě)以在磨制時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。
金相試樣磨抛機MP-1B采用了變頻器調速,可(kě)使磨抛盤的(de)轉速在50-1000r/min之間無極可(kě)調,通過更換金相砂紙和(hé)抛光織物可(kě)以完成試樣的(de)磨、抛工序,展現了更廣泛的(de)應用性。殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,并自(zì)帶冷卻裝置,可(kě)以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。
金相試樣磨抛機MP-2B采用了變頻器調速,可(kě)使磨抛盤的(de)轉速在50-1000r/min之間無極可(kě)調, 通過更換金相砂紙和(hé)抛光織物可(kě)以完成試樣的(de)磨、抛工序,展現了更廣泛的(de)應用性。雙盤式設計,可(kě)以兩人同時操作,殼體采用整體吸塑技術,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,并自(zì)帶冷卻裝置,可(kě)以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。
金相試樣磨抛光機MP-2采用雙盤式設計,左盤為(wèi)研磨盤,右盤為(wèi)抛光盤,同時滿足了磨、抛光兩道(dào)工序的(de)要求,可(kě)以兩人同時操作。殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高(gāo)等特點,并自(zì)帶冷卻裝置,可(kě)以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。
金相試樣鑲嵌機XQ-2B是對微小或不規則形狀和(hé)不易手拿的(de)試樣,用熱固性塑料*行鑲嵌成形,也是磨抛工作*的(de)前道(dào)工序。本機械式鑲嵌機,加熱溫度由數字溫度儀控制,各種性能穩定可(kě)靠,為(wèi)更安全的(de)操作,本機裝有安全防護蓋闆,是試樣鑲嵌的(de)設備。
金相試樣切割機Q-2A,本機利用高(gāo)速旋轉的(de)薄片砂輪來截取金捆試樣,适直切割較硬的(de)金屬材料,本機有冷卻裝置,用來帶走切割時所産生的(de)熱量,避免試樣過熱而改變組織。
金相試樣切割機Q-2,本機利用高(gāo)速旋轉的(de)薄片砂輪來截取金捆試樣,适直切割較硬的(de)金屬材料,本機有冷卻裝置,用來帶走切割時所産生的(de)熱量,避免試樣過熱而改變組織。
金相試樣自(zì)動切割機Q-80Z是由機身、電控箱、切割室、電機冷卻系統、切割砂輪片等部件組成。本切割機不但可(kě)以切割直徑為(wèi)80mm以內(nèi)的(de)圓形工件,還可(kě)以切割高(gāo)100mm,深200mm以內(nèi)的(de)長(cháng)方形試樣。
金相試樣自(zì)動切割機Q-100B是由機身、電控箱、切割室、電機冷卻系統、切割砂輪片等部件組成。本切割機不但可(kě)以切割直徑為(wèi)100mm以內(nèi)的(de)圓形工件,還可(kě)以切割高(gāo)100mm,深200mm以內(nèi)的(de)長(cháng)方形試樣。
HXQZ-1全自(zì)動鑲嵌機是金相試樣制備過程中的(de)一(yī)個非常重要的(de)環節,尤其适用于一(yī)些微小的(de)不易手拿的(de)樣品或者形狀不規則的(de)樣品,通過鑲嵌後使其外形尺寸固定統一(yī),便于手拿或者進行後續全自(zì)動磨抛。特别适用于需要保護邊緣的(de)試樣或需進行自(zì)動磨抛的(de)試樣,進行試樣的(de)鑲嵌是*的(de)工序,特别适用于工廠、大專院校及科研單位的(de)金相試驗室,是金相試樣鑲嵌的(de)選擇。
金相試樣磨抛機HMP-1,是集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)經濟型雙盤式磨抛機。它采用過單片機技術通過薄膜開關面闆進行控制,磨抛盤采用直流無刷電機進行驅動,V帶進行傳動,具有轉動平穩,噪音低(dī),壽命長(cháng),安全可(kě)靠等特點。
金相試樣磨抛機HMP-2,是集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)經濟型雙盤式磨抛機。它采用過單片機技術通過薄膜開關面闆進行控制,磨抛盤采用直流無刷電機進行驅動,V帶進行傳動,具有轉動平穩,噪音低(dī),壽命長(cháng),安全可(kě)靠等特點。
自(zì)動金相試樣磨抛機HMP-1A集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)雙盤式全自(zì)動磨抛機。它采用單片機技術通過觸摸屏進行控制,磨抛盤采用無刷電機驅動,V帶進行傳動,磨頭采用步進電機驅動,同步帶進行傳動 具有轉動平穩,噪音低(dī),安全可(kě)靠等特點。
自(zì)動金相試樣磨抛機HMP-2A集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)雙盤式全自(zì)動磨抛機。它采用單片機技術通過觸摸屏進行控制,磨抛盤采用無刷電機驅動,V帶進行傳動,磨頭采用步進電機驅動,同步帶進行傳動 具有轉動平穩,噪音低(dī),安全可(kě)靠等特點。
自(zì)動金相試樣磨抛機HMP-1AB集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)雙盤式全自(zì)動磨抛機。它采用單片機技術通過觸摸屏進行控制,磨抛盤采用無刷電機驅動,V帶進行傳動,磨頭采用步進電機驅動,同步帶進行傳動 具有轉動平穩,噪音低(dī),安全可(kě)靠等特點。
自(zì)動金相試樣磨抛機HMP-2AB集預磨、研磨、抛光于一(yī)體的(de)雙盤式全自(zì)動磨抛機。它采用單片機技術通過觸摸屏進行控制,磨抛盤采用無刷電機驅動,V帶進行傳動,磨頭采用步進電機驅動,同步帶進行傳動 具有轉動平穩,噪音低(dī),安全可(kě)靠等特點。
HV-5手動轉塔維氏硬度計可(kě)以滿足基本的(de)維氏硬度測試要求,升級後的(de)控制系統可(kě)以提供更多的(de)測量數據,控制也更全面精*。
HV-5Z自(zì)動轉塔維氏硬度計是光機電一(yī)體化的(de)産品,該硬度計造型新穎,具有良好的(de)可(kě)靠性、可(kě)操作性和(hé)重複性,是測試維氏硬度的(de)理(lǐ)想産品。該機采用計算機軟件編程,光學(xué)測量系統。通過軟鍵輸入,可(kě)選擇維氏和(hé)努氏硬度的(de)測量、能調節測量光源的(de)強弱,能選擇保荷時間,在LCD顯示屏上能顯示試驗方法、試驗力,通過面闆輸入測量壓痕對角線長(cháng)度、屏幕直接讀出硬度值,簡便了查表的(de)繁瑣。使用方便,測量精*高(gāo)。